真空镀膜设备的简介及应用范围有哪些？
真空镀膜设备应用范围还是非常广泛的，可以说，我们生活中大部分用到的东西，都离不开镀膜。 光学方面的应用：反射镜、增透膜、滤光片；如天文望远镜、建筑玻璃、相机、灯具等。 电子电路方面的应用：导电膜、绝缘膜、保护膜；如逻辑原件、运算器、磁片、CCD。 显示器方面的应用：透明导电膜、摄像管导电膜；如LCD、录像磁头。 元件：蒸发镍、铝、金属陶瓷；如电子、电容、影印机硒鼓。 纺织品：装饰膜；如金属花纹、金丝银丝线。 模具：刀具超硬膜。 消费品：如级面板、扶手、栏杆、不锈钢薄板、手机外壳、香烟纸等。
真空蒸发镀膜法：就是将镀的基材放于真空镀膜机的电极上进行加热，使其蒸发变为气体，由于镀膜室处于真空状态，所以气体膜材的运输不会收到阻碍，最后沉积到基片表面，就形成了均匀的薄膜。
整个过程分为三个步骤：
1、膜材的蒸发过程，需要确立条件：膜材料的蒸发温度，膜材蒸发的最佳蒸汽压；膜材料的蒸发速率。
2、膜材料的蒸发过程逸出的迁移，所需确立条件：在镀膜过程中，要保持真空室内的真空度一直高于10-2Pa，真空度应该是一个适宜的固定值，并不是越高越好。
3、逸出的粒子到达基片表面成膜的过程，所需确立条件：适当提高蒸发速率有利于形成纯净度较高的膜。
其中拿溅射镀膜法来举例子：溅射镀膜法的原理是用荷能离子轰击靶材，将分子或者原子从靶材上激射下来最后成膜。
影响溅射产额的因素主要有：入射离子的能量大小、靶材的种类，入射离子种类、轰击离子的入射角以及靶材温度等。控制好靶材的种类能大大提高溅射产额。
该设备集磁控溅射与离子镀膜技术为一体，对提高颜色一致性、沉积速率及化合物成份的稳定性提供了解决方案。根据不同的产品需求，可选配加热系统、偏压系统、离化系统等装置，其靶位分布可灵活调整，膜层均匀性优越；配备不同的靶材，可镀制出性能更好的复合膜层。设备所镀制的膜层具有附着力强，致密性高的优点，可有效提高产品的耐盐雾性、耐磨性及产品表面硬度，满足了高性能膜层制备的需求。可适用于不锈钢、水镀五金件/塑胶件、玻璃、陶瓷等材质；可制备TiN/TiCN/TiC/TiO2/TiAlN/CrN/ZrN/CrC等金属化合物膜层；可实现深黑色、炉内金、玫瑰金、仿金、锆金、宝石蓝、亮银色等颜色。
设备主要用于电子产品五金件、高档钟表、高档首饰、品牌皮具五金件等。